В Китае первые EUV-сканеры будут установлены в 2019 году

Производством литографических EUV-сканеров занимается нидерландская компания ASML, сообщает "3Dnews".

В настоящий момент ASML поставила клиентам 14 опытных EUV-сканеров и располагает заказами на изготовление 21 новой установки.

Первыми сканеры EUV-диапазона для коммерческого производства полупроводников с нормами 7 нм начнёт использовать компания Samsung — это произойдёт в 2018 году. В 2019 году коммерческий выпуск 7-нм чипов на EUV-оборудовании начнёт компания TSMC.

GlobalFoundries приступит к коммерческой эксплуатации EUV-сканеров в конце 2019 года или, скорее всего, в 2020 году. В компании Intel по этому поводу хранят молчание, но, по слухам, из 21 новых сканеров ASML большинство установок заказано Intel. Китайцы, что удивительно, также рассчитывают получить первые EUV-сканеры в 2019 году.

Удивляет не сам факт получения сканеров, деньги на которые Китай найдёт в любом объёме, а намерение китайских производителей начать выпуск 7-нм полупроводниковой продукции по истечении трёх лет — в 2020 или 2021 году. В настоящий момент в страну негласно запрещено передавать техпроцессы с нормами 14 нм. Компании UMC и TSMC, например, с трудом получили разрешение внедрить на своих китайских СП техпроцессы с нормами 28 нм. О планах поставить в Китай EUV-сканеры заявил глава китайского представительства ASML Ким Ён Сун.

По словам локального представителя ASML, есть договорённость на поставку EUV-сканеров с одним из китайских лидеров контрактного производства полупроводников, и есть множественные контакты с компаниями поменьше. Поскольку на изготовление каждой установки уходит около 21 месяца, контракты необходимо заключать с существенным упреждением.

ASML не собирается и никак не дискриминирует китайских заказчиков, чтобы отдавать предпочтение заказам со стороны американских, тайваньских или японских компаний. Если китайская компания захочет купить EUV-сканеры, они будут собраны в срок и отправлены заказчику без каких-либо оговорок.

Фото: "3Dnews"