Главная Новости HI-tech GlobalFoundries и Toppan Photomasks расширяют деятельность
commentss НОВОСТИ Все новости

GlobalFoundries и Toppan Photomasks расширяют деятельность

GlobalFoundries сообщила, что она вместе со своим партнёром Toppan Photomasks по совместному предприятию Advanced Mask Technology Center (AMTC) в Дрездене договорилась о расширении деятельности в течение нескольких следующих лет 

12 апреля 2018, 13:35
Поделитесь публикацией:
GlobalFoundries и Toppan Photomasks расширяют деятельность

Предприятие AMTC было организовано в 2002 году как СП между компаниями AMD, Infineon и DuPont Photomasks, сообщает "3Dnews".

И одна, и другая, и третья компания тем или иным способом лишились участия в AMTC. Нынешними владельцами AMTC являются арабо-американская компания GlobalFoundries и японская Toppan Photomasks. Смена владельцев не изменила вид деятельности AMTC — центр на базе собственного производства в Дрездене выпускает фотомаски (фотошаблоны) для производства полупроводников.

Деятельность AMTC не утратила актуальности. Предприятие стартовало с выпуска фотомасок для 90-нм и 65-нм техпроцессов и сегодня выпускает фотомаски для производства 14-нм чипов с использованием FinFET-структур и маски для производства чипов на пластинах FD-SOI. В 2017 году на модернизацию и расширение производства было выделено 100 млн. евро ($124 млн.). С 2002 года в предприятие AMTC в Дрездене вложено порядка $600 млн. В последние годы объёмы выпуска фотомасок росли свыше 10% в год. В 2003 году на заводе работало 170 инженеров. Сегодня их число выросло до 250 человек.

Для GlobalFoundries работа предприятия важна не только как источник дополнительного дохода, а центр выпускает фотомаски для предприятий во всём мире, это также основа производства самой компании и источник успеха компании AMD. От качества и своевременности изготовления фотошаблонов зависит выпуск процессоров AMD Ryzen, графических процессоров Radeon и многого другого. На новом этапе сотрудничества GlobalFoundries и Toppan углубятся в производство фотомасок для техпроцессов с нормами менее 14 нм, включая фотошаблоны для работы с проекцией в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

Фото: igi.com



Читайте Comments.ua в Google News
Если вы нашли ошибку, пожалуйста, выделите фрагмент текста и нажмите Ctrl+Enter.
comments

Обсуждения

comments

Новости партнеров


Новости

?>
Подписывайтесь на уведомления, чтобы быть в курсе последних новостей!