Samsung, Intel и SK Hynix инвестировали в нанопроизводство для чипов

Она занимается созданием устройства согласования для управления плазменной дугой в системах проекции для литографического производства полупроводников, сообщает "hi-tech.ua".

Reno Sub-Systems разрабатывает и выпускает генераторы мощности для работы с плазмой (RF power generators) и системы подачи газа, в среде которого зажигается и работает плазменная дуга.

Инженеры Reno Sub-Systems разработали уникальный твердотельный переменный конденсатор Electronically Variable Capacitor (EVC) с перестройкой ёмкости за 10 мкс и автоподстройкой менее 500 мкс. Именно эта разработка позволила создать передовые системы подстройки для работы с плазмой в современных и будущих литографических сканерах.

Все перечисленные выше направления нужны для стабильной работы литографических сканеров при производстве 14-нм чипов, будущих 7-нм и с меньшими нормами производства. Передовые сканеры оперируют слоями напыления толщиной в один атом. Любая нестабильность или рассогласование приведёт к росту уровня брака. Системы Reno Sub-Systems обещают высокую скорость реакции блока управления плазмой и достаточно компактны для встраивания в сканеры.

Фото: "hi-tech.ua"

 

Читайте Comments.ua в Google News