imec открывает новую «чистую комнату» для техпроцессов с нормами менее 7 нм

В "чистых комнатах" находится литографическое оборудование для переноса изображения с фотошаблонов на полупроводниковые пластины, сообщает "3Dnews".

Новая "чистая комната" imec вместила линии для обработки 300-мм кремниевых пластин — наибольшего из имеющихся сегодня в ходу типоразмеров.

Общая площадь нового помещения составила 4000 квадратных метров. На строительство здания ушло 20 месяцев и свыше одного миллиарда евро. Тем самым общая площадь "чистых комнат" imec достигла внушительного числа 12 000 квадратных метров. Можно ожидать, что новые линии для освоения техпроцессов с нормами менее 7 нм опираются на EUV-оборудование компании ASML. В пресс-релизе imec об этом ничего нет, но сообщается, что новые линии используют опытные сканеры ранних (альфа и бета) версий. Центр imec, кстати, уже имеет на руках опытный кремний с 5-нм чипами.

Новые линии дополнят экспериментальные и коммерческие линии imec для выпуска полупроводников с лейблом "Made in Europe". Кроме перспективных исследований центр imec занимается обслуживанием коммерческих заказов на проектирование и производство микросхем для больших и маленьких европейских компаний. В активе центра имеются опытные линии по выпуску биоэлектроники, нейроэлектроники, беспроводных чипов, солнечных панелей, кремниевой фотоники на основе GaN-on-Si (нитрид галлия на кремнии) и MEMS-схем (микроэлектромеханические). Новые линии в новой "чистой комнате" дополнят этот список возможностью выпускать чипы с размером элементов длиной в считанные единицы атомов.